Дополнительный рекристаллизационный отжиг приводит к созданию в деформированных участках крупнозернистой структуры, которая "наследуется" материалом после второй прокатки и соответствующего отжига. Разработаны и другие способы создания структурных барьеров.

Таким образом, ВР в анизотропной электротехнической стали развивается в результате торможения роста зерен дисперсными частицами и сегрегациями растворенных примесей. Начало ВР связано с растворением этих частиц и постепенным ослаблением сегрегации. Образование ребровой текстуры при ВР в этой стали обусловлено в первую очередь тем, что при нормальном росте, предшествующем ВР, кристаллиты с точной ориентировкой растут быстрее зерен с другими ориентировками. Благодаря этому большинство зародышей ВР имеет точную ориентировку. Кроме того, и в ходе ВР центры с точной ориентировкой растут быстрее центров с отклоняющейся ориентировкой. Основная причина ускоренного роста зерен как на инкубационном периоде, так и в ходе развития ВР - благоприятная текстура матрицы ВР, главная составляющая которой обеспечивает границам зерен - повышенную эффективную подвижность.

Поскольку размер крупных зерен уменьшается с увеличением отклонения их ориентировки, следует ожидать, что в листе уменьшенной толщины по чисто геометрическим причинам рассеяние текстуры ВР будет увеличенным. Очевидно, что в таких листах решающую роль в уменьшении рассеяния ребровой текстуры, кроме уменьшения среднего размера зерна в матрице ВР, должны сыграть увеличение тормозящей силы, создаваемой дисперсными включениями, и повышение термической стабильности этих включений.